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        東莞市誠通新材料科技有限公司拋光皮
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        研磨有幾種方法?

        信息來源于:互聯網 發布于:2021-11-29

        拋光墊又稱拋光皮,拋光布,拋光片,化學機械拋光中決定表面質量的重要輔料。

        作用:

        ①把拋光液有效均勻地輸送到拋光墊的不同區域;

        ②將拋光后便化學反應充分進行的反應物、碎屑等順利排出,達到去除效果;

        ③維持拋光墊表面的拋光液薄膜, 以便化學反應充分進行;

        正確處理研磨的運動軌跡是提高研磨質量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對研具的運動﹐要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近﹔②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運動軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運動平穩﹔④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現周期性重復。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進行。粗研的壓力不超過 0.3兆帕﹐精研壓力一般采用0.03~0.05兆帕。粗研速度一般為20~120米/分﹐精研速度一般取10~30米/分。

        互相配合的工件常采用配研方法

        ①濕研:又稱敷砂研磨,把液態研磨劑連續加注或涂敷在研磨表面,磨料在工件與研具間不斷滑動和滾動,形成切削運動。濕研一般用于粗研磨,所用微粉磨料粒度粗于W7。

        ②干研:又稱嵌砂研磨,把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。干研常用于精研磨,所用微粉磨料粒度細于W7。

        ③半干研:類似濕研,所用研磨劑是糊狀研磨膏。研磨既可用手工操作,也可在研磨機上進行。工件在研磨前須先用其他加工方法獲得較高的預加工精度,所留研磨余量一般為5~30微米。

        ④保持拋光過程的平穩、表面不變形, 以便獲得較好的晶片表面形貌。

        拋光皮
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